甘绍宁会见中国美国商会代表团一行
发布时间:2021/9/17 15:34:01来源:中国知识产权报/国家知识产权战略网分享到

  9月15日,中国国家知识产权局副局长甘绍宁在京会见了中国美国商会总裁毕艾伦和商会企业代表一行。

  甘绍宁对毕艾伦一行表示欢迎。他指出,中国政府高度重视知识产权保护。近年来,知识产权作为营商环境的一项重要内容,越来越受到中外企业的关注。一直以来,中国国家知识产权局与包括美国在内的各国权利人和利益相关方保持着良好交流。中国知识产权事业的发展,离不开中国美国商会在内的外国商会、协会和国内外权利人的支持与关注。未来,中国国家知识产权局将继续以积极、开放的态度向各国权利人敞开大门,在交流中答疑解惑、增进互信。

  毕艾伦表示,中国近年来在知识产权保护方面取得了长足的进展。中国美国商会对于近年来中国国家知识产权局在知识产权领域的政策制定以及与美方政府机构开展的合作表示赞赏,并愿意为中国国家知识产权局和商会企业搭建沟通交流的平台,促进双方对话合作,为持续优化中国营商环境、完善知识产权保护制度提供帮助。

  会上,双方就中国知识产权政策法规、药品专利纠纷早期解决机制、药品专利期限补偿机制、跨境电商知识产权保护等议题深入交换了意见。会后,毕艾伦向中国国家知识产权局递交了《2021美国企业在中国白皮书》。局国际司、条法司、保护司、运用促进司和商标局等部门参加了会见。(薛佩雯)

  

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